高純度氧化鋁 (High Purity Alumina, HPA) 作為電子、光學、陶瓷材料等領(lǐng)域的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料，對其純度和粒徑分布有一定要求。根據(jù)其最終用途，純度通常需達到99.99%以上，甚至達到5N (99.999%) 水平。當前工業(yè)中廣泛應(yīng)用的制備方法包括化學沉淀法與溶膠-凝膠法 (Sol-Gel)，而在這兩個工藝流程中，過濾、洗滌與干燥環(huán)節(jié)是確保產(chǎn)品純度、粒徑可控性與形貌完整性的關(guān)鍵步驟。

一、工藝背景：化學沉淀法制備高純氧化鋁

在化學沉淀法中，通常以鋁鹽（如AlCl?、Al(NO?)?或異丙醇鋁）為前驅(qū)體，通過加入氨水或碳酸鹽進行沉淀反應(yīng)，生成Al(OH)?凝膠。隨后經(jīng)過充分洗滌以去除Cl?、NO??等雜離子，最終干燥與煅燒得到γ-Al?O?或α-Al?O?粉末。該方法純度可達99.99%以上，但工藝流程較長、操作復雜，對設(shè)備密閉性和潔凈度要求高。

二、三合一設(shè)備的技術(shù)優(yōu)勢與契合點

我司自主研發(fā)制造的過濾洗滌干燥三合一設(shè)備 (Agitated Nutsche Filter Dryer, ANFD) 正是為此類復雜精細流程而設(shè)計，其在高純度氧化鋁制備中的應(yīng)用展現(xiàn)出以下顯著優(yōu)勢：

1. 密閉系統(tǒng)，防止雜質(zhì)再污染

整個過濾、洗滌、干燥過程在密閉容器中連續(xù)完成，極大降低外界環(huán)境對高純材料的污染風險，滿足電子級、光學級HPA的潔凈需求。

2. 精準洗滌，提高離子殘留清除效率

設(shè)備配備底部過濾板與多向攪拌裝置，可實現(xiàn)沉淀物的動態(tài)洗滌，有效去除Cl?、NO??等殘余雜離子，提升產(chǎn)品電阻率與透明性。

3. 真空干燥功能，保護物料結(jié)構(gòu)完整

在完成洗滌后可直接轉(zhuǎn)入真空干燥階段，避免傳統(tǒng)工藝中因物料轉(zhuǎn)移造成的損失或團聚現(xiàn)象，同時降低熱敏物料在高溫下結(jié)構(gòu)破壞的風險。

4. 自動化控制，提高批次穩(wěn)定性

三合一設(shè)備支持PLC控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)溫度、攪拌轉(zhuǎn)速、壓力等關(guān)鍵參數(shù)的自動控制與記錄，確保批次之間的工藝一致性，是實現(xiàn)HPA生產(chǎn)自動化、智能化的重要設(shè)備基礎(chǔ)。

三、工藝應(yīng)用示意（結(jié)合Sol-Gel法）

在Sol-Gel法中，鋁醇鹽與水/醇溶劑反應(yīng)生成透明溶膠，再凝膠化成干凝膠，通過過濾除去溶劑殘留和雜質(zhì)，最終干燥與煅燒得到納米級高純氧化鋁粉體。該方法適合制備高比表面積、特殊形貌的納米氧化鋁。

三合一設(shè)備在該工藝中用于處理：

l 凝膠的低剪切過濾

l 反復洗滌以去除有機殘留

l 真空低溫干燥以保護形貌結(jié)構(gòu)

實現(xiàn)了對粒徑控制、形貌調(diào)控與純度控制的協(xié)同提升。

隨著材料產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高純度氧化鋁的市場需求持續(xù)增長。傳統(tǒng)多步式分體工藝已難以滿足現(xiàn)代制造對效率、品質(zhì)與潔凈度的全面要求。我司的過濾洗滌干燥三合一設(shè)備，憑借其密閉、安全、連續(xù)、自動化的優(yōu)勢，已在多家HPA生產(chǎn)企業(yè)中成功應(yīng)用，成為精細材料制備工藝升級的重要推動力量。